1.一种平滑釉面砖的釉面自锐抛光设备，包括有底座(1)、工作台(2)、支撑台(3)、导向框(4)、滑动架(5)、第一电机(6)、抛光机头(7)和回力弹簧(8)，底座(1)顶部前侧固接有工作台(2)，工作台(2)顶部中间固定连接有用于放置釉面砖的支撑台(3)，工作台(2)顶部后侧设有导向框(4)，导向框(4)内滑动式设有滑动架(5)，滑动架(5)上部设有第一电机(6)，第一电机(6)输出轴上连接有抛光机头(7)，抛光机头(7)能够对釉面砖进行抛光，滑动架(5)与导向框(4)内部之间连接有回力弹簧(8)，其特征在于：还包括有固定机构(9)、顶位机构(10)、转动机构(11)和推动机构(12)，工作台(2)上设有固定机构(9)，工作台(2)下部设有顶位机构(10)，导向框(4)上设有转动机构(11)，转动机构(11)上设有推动机构(12)。

2.如权利要求1所述的一种平滑釉面砖的釉面自锐抛光设备，其特征在于：固定机构(9)包括有滑动块(91)和压缩弹簧(92)，工作台(2)上部前后两侧均左右对称滑动式设有能够固定釉面砖滑动块(91)，滑动块(91)与工作台(2)之间均连接有压缩弹簧(92)。

3.如权利要求2所述的一种平滑釉面砖的釉面自锐抛光设备，其特征在于：顶位机构(10)包括有连接杆(101)、转动架(102)、扭力弹簧(103)和转动盘(104)，滑动块(91)底部均设有连接杆(101)，工作台(2)底部中间转动式设有转动架(102)，转动架(102)上部设有转动盘(104)，转动盘(104)与四根连接杆(101)接触，转动架(102)与工作台(2)之间连接有扭力弹簧(103)，扭力弹簧(103)的力比压缩弹簧(92)的力大。

4.如权利要求3所述的一种平滑釉面砖的釉面自锐抛光设备，其特征在于：转动机构(11)包括有第二电机(111)、螺纹杆(112)和连接块(113)，导向框(4)左壁设有第二电机(111)，第二电机(111)输出轴上连接有螺纹杆(112)，螺纹杆(112)上螺纹式设有连接块(113)，连接块(113)与滑动架(5)相连。

5.如权利要求4所述的一种平滑釉面砖的釉面自锐抛光设备，其特征在于：能够使固定机构(9)工作的推动机构(12)包括有推动架(121)和转动块(122)，转动架(102)底部设有转动块(122)，连接块(113)前壁设有推动架(121)，推动架(121)与转动块(122)接触。

6.如权利要求5所述的一种平滑釉面砖的釉面自锐抛光设备，其特征在于：还包括有能够清除碎渣的吸除机构(13)，吸除机构(13)包括有真空泵(131)、连接框(132)、过滤网(133)和连接管(134)，连接块(113)顶部设有真空泵(131)，真空泵(131)前端连接有连接框(132)，连接框(132)前侧设有过滤网(133)，真空泵(131)后端连接有连接管(134)，连接管(134)穿过滑动架(5)。

7.如权利要求6所述的一种平滑釉面砖的釉面自锐抛光设备，其特征在于：还包括有调节机构(14)，调节机构(14)包括有升降盘(141)和螺纹块(142)，支撑台(3)内中间螺纹式设有螺纹块(142)，螺纹块(142)顶部设有升降盘(141)，升降盘(141)位于支撑台(3)上方。

8.如权利要求2所述的一种平滑釉面砖的釉面自锐抛光设备，其特征在于：滑动块(91)上与釉面砖接触的一面均涂有软胶。