1.一种基于pH智能响应的铜基材料，其特征在于，包括表面粗糙的铜基，所述铜基表面覆盖有单分子膜，所述单分子膜由3‑巯基苯甲酸和2‑萘硫醇单体构成。

2.如权利要求1所述的基于pH智能响应的铜基材料，其特征在于，所述单分子膜包括3‑巯基苯甲酸和2‑萘硫醇单体与不同烷基链长的硫醇、硫醇酸、硫醇氨中一种或多种的组合，所述3‑巯基苯甲酸与2‑萘硫醇单体的摩尔比为0.6‑0.4。

3.如权利要求1所述的基于pH智能响应的铜基材料，其特征在于，所述铜基包括铜金属片和以铜含量为75％以上的合金片中至少一种，所述表面粗糙为表面生长有Cu(OH)2纳米线。

4.一种基于pH智能响应的铜基材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)清洗铜基，对铜基处理使其表面粗糙；

(2)配置包括3‑巯基苯甲酸和2‑萘硫醇单体的修饰溶液，将蚀刻后的铜基干燥处理，浸入修饰溶液中，改性修饰12h以上；

(3)取出修饰后的铜基，清洗去除未反应的单体，得到基于pH智能响应的铜基材料。

5.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述清洗铜基，具体包括：室温下，将铜基依次浸入丙酮，乙醇和去离子水中超声清洗30min以上，放入真空干燥箱中60‑

70℃干燥1‑4h，再浸入盐酸溶液中以除去表面氧化物，然后用去离子水冲洗。

6.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述处理使其表面粗糙为蚀刻处理，蚀刻为超声蚀刻或化学蚀刻；所述超声蚀刻具体为：将铜基浸入含有0.1‑0.2M HCl‑1和10‑40mg mL FeCl3混合溶液中进行超声蚀刻10‑20min，用去离子水冲洗干净；所述化学蚀刻具体为：将铜基浸入含有2.5‑3.5M NaOH和0.1‑0.2M(NH4)2S2O8或Na2S2O8的水溶液中蚀刻30‑120min，用去离子水洗涤干净，在惰性气体氛围下干燥。

7.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，步骤(2)中所述3‑巯基苯甲酸和/或2‑萘硫醇单体的修饰溶液的溶剂包括甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正己烷中的一种或多种。

8.一种pH智能响应的铜基材料复合膜，其特征在于，包括如权利要求1‑3任一项所述的基于pH智能响应的铜基材料和复合膜基材，所述基于pH智能响应的铜基材料与复合膜基材压合连接。

9.如权利要求8所述的pH智能响应的铜基材料复合膜，其特征在于，所述基于pH智能响应的铜基材料呈船型或丝网型。

10.如权利要求8所述的pH智能响应的铜基材料复合膜，其特征在于，所述复合膜基材包括纤维、纤维布、海绵材料、金属网、金属箔及金属泡沫材料中的一种或多种；所述纤维为棉纤维、麻纤维、玻璃纤维、石英纤维、碳纤维、有机聚合物纤维中的一种或多种；所述纤维布为玻璃纤维布、石英纤维布、碳纤维布、尼龙和有机聚合物无纺布中的一种或多种；所述海绵为聚氨酯海绵、聚三聚氰胺海绵、聚酰亚胺海绵和纤维素海绵中的一种或多种。