1.一种晶圆片沟槽腐蚀装置，设于两个传送带之间，其特征在于，包括：

工作台（100），顶面长度方向两端均设有凹部（101），用于放置晶圆架，所述工作台（100）上还设有腐蚀池（102）和清洗池（103），所述腐蚀池（102）及所述清洗池（103）均位于两个所述凹部（101）之间；

转移机构（200），包括两个沿所述工作台（100）长度方向设置且对称布置的轨道（201）和转移单元，所述轨道（201）包括波浪段和设于波浪段两端的直线段，所述转移单元沿所述工作台（100）长度方向设置并位于所述轨道（201）外侧；

夹持机构（300），包括沿所述轨道（201）轨迹移动的连杆（301），所述连杆（301）两端穿过所述轨道（201）并连接于所述转移单元的移动端，所述连杆（301）上设有多个在竖直和水平方向上移动且对称布置的弯钩（307），用于夹持晶圆架；

推动机构（400），包括两个分别设于所述轨道（201）的两个直线段上的推动单元，所述推动单元用于推动所述弯钩（307）在竖直和水平方向上移动；

所述转移单元包括移动杆（202），所述工作台（100）长度方向两侧还设有贯穿的通槽（104），所述移动杆（202）下端穿过所述通槽（104），所述移动杆（202）上套设有两个移动块（203），所述移动块（203）沿所述工作台（100）长度方向移动，所述连杆（301）两端均设有支板（302），所述支板（302）套设于所述移动杆（202）上，所述移动杆（202）上还套设有两个第一弹簧（207），所述第一弹簧（207）分别位于所述支板（302）上下两侧，且两端分别与所述支板（302）和所述移动块（203）连接。

2.根据权利要求1所述的晶圆片沟槽腐蚀装置，其特征在于，所述移动块（203）分别套设于一个第一丝杆（204）上，所述第一丝杆（204）分别设于所述工作台（100）上下两侧并安装于横杆（205）中，所述横杆（205）安装于所述工作台（100）上，并沿其长度方向设置，所述第一丝杆（204）一端连接第一电机（206），所述第一电机（206）安装于所述横杆（205）上。

3.根据权利要求2所述的晶圆片沟槽腐蚀装置，其特征在于，所述转移单元还包括两个支撑板（208），所述支撑板（208）分别安装于所述工作台（100）上下两侧，所述支撑板（208）表面沿其长度方向设有限位槽（209），所述移动杆（202）两端穿过所述限位槽（209），所述移动杆（202）两端还设有限位部（210），所述限位部（210）抵接到所述支撑板（208）表面。

4.根据权利要求1所述的晶圆片沟槽腐蚀装置，其特征在于，所述连杆（301）长度方向两侧设有侧板（303），所述侧板（303）上沿其长度方向设有两个对称布置且贯穿的长条孔（304），所述长条孔（304）内穿设有压杆（305），所述压杆（305）下端设有挡板（306），所述弯钩（307）安装于所述挡板（306）上，所述压杆（305）上端设有压板（308），所述压杆（305）上还套设有挡环（309），所述挡环（309）抵接到所述侧板（303）的表面，所述压杆（305）上套设有第二弹簧（310），所述第二弹簧（310）两端分别抵接到所述挡环（309）和所述压板（308）。

5.根据权利要求4所述的晶圆片沟槽腐蚀装置，其特征在于，两个所述侧板（303）上位于同一端的所述挡环（309）通过连接板（311）连接起来，所述连接板（311）顶面设有竖板（312），所述连杆（301）顶面中心设有凸块（313），所述凸块（313）两侧均设有滑杆（314），所述滑杆（314）一端穿设于所述竖板（312）上，所述滑杆（314）上套设有第三弹簧（315），所述第三弹簧（315）两端分别抵接到所述凸块（313）和所述竖板（312），所述滑杆（314）一端还设有挡圈（316），用于抵接到所述竖板（312）。

6.根据权利要求5所述的晶圆片沟槽腐蚀装置，其特征在于，所述推动单元包括横板（401），所述横板（401）两端安装于第一伸缩杆（408）上，所述第一伸缩杆（408）安装于所述轨道（201）的直线段上，所述横板（401）长度方向两侧分别设有两个对称布置的支架（402），所述支架（402）上穿设有转轴（403），所述转轴（403）上穿设有两个凸轮（404），且所述凸轮（404）位于所述支架（402）之间，所述转轴（403）一端连接第二电机（405），所述第二电机（405）安装于所述支架（402）上，所述支架（402）上设有贯穿的通孔（406），用于穿过所述凸轮（404），所述凸轮（404）用于与所述压板（308）接触，并将其下压。

7.根据权利要求6所述的晶圆片沟槽腐蚀装置，其特征在于，所述横板（401）底面还设有两个对称布置的顶杆（407），所述顶杆（407）位于所述转轴（403）之间，所述竖板（312）上设有斜板（317），且所述斜板（317）朝向所述凸块（313）的一端向上倾斜，应用时，所述顶杆（407）与所述斜板（317）接触。

8.根据权利要求1所述的晶圆片沟槽腐蚀装置，其特征在于，所述轨道（201）的波浪段具有两个最低点，且所述轨道（201）的两个最低点分别位于所述腐蚀池（102）及所述清洗池（103）的中心平面上，所述轨道（201）的直线段与波浪段的最高点连接。

9.根据权利要求6所述的晶圆片沟槽腐蚀装置，其特征在于，所述轨道（201）靠近所述腐蚀池（102）的直线段上设有限位杆（211），所述限位杆（211）顶面沿其长度方向设有滑槽（212），所述第一伸缩杆（408）的下端滑动配合于所述滑槽（212）内，且所述第一伸缩杆（408）的侧面还设有支杆（409），所述支杆（409）位于所述滑槽（212）内，且一端穿出所述限位杆（211），所述支杆（409）上套设有第四弹簧（410），所述第四弹簧（410）两端分别抵接到所述第一伸缩杆（408）的侧面和所述滑槽（212）的一端。

10.根据权利要求1 9中任意一项所述的晶圆片沟槽腐蚀装置，其特征在于，还包括输~

送机构（500），所述输送机构（500）包括支撑杆（501），所述支撑杆（501）两端分别连接于直线机构的移动端上，直线机构设于所述转移机构（200）上方，所述支撑杆（501）内设有第二丝杆（502），所述第二丝杆（502）一端连接第三电机（503），所述第三电机（503）安装于所述支撑杆（501）上，所述支撑杆（501）中心设有隔块（504），所述隔块（504）将所述第二丝杆（502）的螺纹分隔为两段，且两段螺纹的旋向相反，两段螺纹上分别套设有连接块（505），所述连接块（505）下方设有第二伸缩杆（506），所述第二伸缩杆（506）的下端设有L形杆（507），两个所述L形杆之间呈中心对称布置，用于托起晶圆架。