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专利号: 2022111350179
申请人: 长春大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 基本电气元件
更新日期:2023-12-11
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种纳米花状硫化钴的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:将可溶性钴盐和硫源溶于水中,得到电沉积溶液;所述可溶性钴盐与硫源的摩尔比为

1:1~30,所述电沉积溶液中可溶性钴盐的浓度为0.1~1mol/L;

以导电基底作为工作电极置于所述电沉积溶液中,进行循环伏安扫描,在所述导电基底表面原位生成纳米花状硫化钴;所述循环伏安扫描时的负电位窗口为‑1~‑1.3V,正电位‑1窗口为0~0.2V,扫描速度为5~20mV·S ,扫描圈数为10~35圈。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述可溶性钴盐包括氯化钴、硝酸钴和醋酸钴中的一种。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述硫源包括硫脲或硫代乙酰胺。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述循环伏安扫描时的负电位窗口为‑1.24V,正电位窗口为0.16V。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述沉积圈数为15圈。

‑1

6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述扫描速度为10~15mV·S 。

7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述可溶性钴盐与硫源的摩尔比为1:

10~20。

8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述导电基底包括泡沫镍、碳纸和碳布中的一种或多种。

9.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述循环伏安扫描采用的对电极为珀片电极,参比电极为饱和甘汞电极。

10.权利要求1~9任一项所述制备方法制备得到的纳米花状硫化钴,其特征在于,所述纳米花状硫化钴由垂直于导电基底表面的纳米片堆积而成,所述纳米花状硫化钴的孔径为

100~400nm;花瓣片层的长度为300~800nm。