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专利号: 2022111357498
申请人: 陕西理工大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕
更新日期:2025-04-14
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种半导体芯片的镀膜治具,包括镀膜箱(1)、活动板(2)、磁棒冷却水管道(3)、氩气注气管(4)、气压感应器(5)、抽真空管(6)和金属靶材(29),其特征在于:所述镀膜箱(1)顶部气孔处固定连接有抽真空管(6),所述镀膜箱(1)侧壁气孔处固定连接有氩气注气管(4),所述镀膜箱(1)顶部前端直孔处密封连接有活动板(2),所述活动板(2)顶部安装有磁棒冷却水管道(3)和气压感应器(5),所述活动板(2)底部固定连接有金属靶材安装架(30),所述金属靶材(29)安装于金属靶材安装架(30)内,所述金属靶材安装架(30)内安装有磁力棒,所述磁棒冷却水管道(3)安装于金属靶材(29)一侧;

所述镀膜箱(1)内底部设有等弧度转动组件,所述等弧度转动组件包括圆盘(21)、第一锥齿轮(22)、第二连接轴(23)、第二锥齿轮(24)、第二减速电机(25)和U形存料槽(26),所述第二减速电机(25)安装于镀膜箱(1)内底部,所述第二减速电机(25)驱动端连接有第二锥齿轮(24),所述镀膜箱(1)内底部通过轴承转动连接有第二连接轴(23),所述第二连接轴(23)固定连接有与第二锥齿轮(24)啮合连接的第一锥齿轮(22),所述第二连接轴(23)顶部固定连接有圆盘(21),所述圆盘(21)顶部外沿等间距开设有U形存料槽(26);

所述金属靶材(29)设于最前端的所述U形存料槽(26)上方;

所述镀膜箱(1)在等弧度转动组件上方处设有下料组件;

所述下料组件包括第二支撑座(18)、下料推动板(19)、下料推料板活动直槽(20)和下料推料板活动环形槽(27),所述第二支撑座(18)安装于镀膜箱(1)内底部,所述第二支撑座(18)内安装有下料推动板(19),所述圆盘(21)顶部开设有下料推料板活动环形槽(27),所述U形存料槽(26)里端处开设有下料推料板活动直槽(20),且下料推料板活动直槽(20)与下料推料板活动环形槽(27)相通;

所述下料推动板(19)左右侧壁与下料推料板活动直槽(20)侧壁贴合接触,且下料推动板(19)的下端设于下料推料板活动环形槽(27)内;

所述镀膜箱(1)后侧壁开设有料箱插槽(33);

所述镀膜箱(1)在料箱插槽(33)内插接有传送带式存料组件,所述传送带式存料组件包括存放组件和上料组件,所述存放组件与镀膜箱(1)连接,所述存放组件连接有上料组件,所述存放组件内存放多个未镀膜的产品,所述存放组件将未镀膜的产品转动至等弧度转动组件处,所述上料组件将未镀膜的产品推动至等弧度转动组件内,接着下料组件将镀膜后的产品推动至存放组件内;

所述存放组件包括料箱(7)、第一减速电机(16)、料箱插放箱(17)、同步带(31)、第三连接轴(32)和同步轮(36),所述料箱(7)远离镀膜箱(1)后侧通过轴承转动连接有第三连接轴(32),所述第三连接轴(32)靠近镀膜箱(1)的端部固定连接有同步轮(36),所述同步轮(36)啮合连接有同步带(31),所述同步带(31)靠近镀膜箱(1)侧壁等间距固定连接有料箱插放箱(17),所述料箱(7)远离镀膜箱(1)的侧壁固定连接有第一减速电机(16),所述第一减速电机(16)驱动端贯穿料箱(7)后与一个所述的第三连接轴(32)固定连接;

所述上料组件包括第三直线驱动组件(34)、上料推板(35)和上料推板活动槽(37),所述料箱插放箱(17)左右两侧开设有上料推板活动槽(37),所述料箱(7)侧壁固定连接有第三直线驱动组件(34),所述第三直线驱动组件(34)驱动端固定连接有上料推板(35),且上料推板(35)与上料推板活动槽(37)贴合滑动连接。

2.根据权利要求1所述的一种半导体芯片的镀膜治具,其特征在于,所述料箱(7)的外沿通过密封垫与料箱插槽(33)贴合密封连接。

3.根据权利要求1所述的一种半导体芯片的镀膜治具,其特征在于,所述上料推板(35)设于同步带(31)两侧处。

4.根据权利要求3所述的一种半导体芯片的镀膜治具,其特征在于,所述镀膜箱(1)顶部还连接有压紧组件,所述压紧组件与传送带式存料组件连接,实现传送带式存料组件与镀膜箱(1)贴合连接。