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专利号: 2022111467572
申请人: 苏州片山机械科技有限公司
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕
更新日期:2024-07-01
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摘要:

权利要求书:

1.一种陶瓷镀层沉积装置,包括真空罐总成(1)和真空泵组件(2),所述真空罐总成(1)和所述真空泵组件(2)通过管道连接,所述真空罐总成(1)的侧壁上安装有电极(5),其特征在于:所述真空罐总成(1)内部的一端位置处转动连接有支撑单元(3),所述支撑单元(3)上设置有夹持单元(4),所述夹持单元(4)通过第一限位组件与所述支撑单元(3)固定连接,所述真空罐总成(1)的一侧固定连接有驱动组件,所述驱动组件用于驱动所述夹持单元(4)和所述支撑单元(3)在所述真空罐总成(1)内转动;

所述驱动组件与所述夹持单元(4)通过第二限位组件固定连接,所述夹持单元(4)用于夹持密封支架,并通过所述电极(5)对所述密封支架表面进行陶瓷镀层沉积;

所述支撑单元(3)包括设置于所述真空罐总成(1)内壁周圈方向上的多个滚轮(8),多个所述滚轮(8)的一侧均通过转动轴转动连接有转动板,多个所述转动板的一侧均固定连接有支撑杆(9),多个所述支撑杆(9)的一端固定连接有同一个固定框(10),多个所述支撑杆(9)之间均固定连接有连接杆(11),所述连接杆(11)靠近所述固定框(10)的一侧呈凹弧形结构,所述真空罐总成(1)的一端位置处的内壁上开设有转动槽,所述滚轮(8)的侧壁与所述转动槽的内壁相贴合,所述第一限位组件与所述固定框(10)相连接,所述夹持单元(4)与所述固定框(10)相连接;

所述夹持单元(4)包括设置于所述固定框(10)一侧的固定板(17),所述固定板(17)的一侧固定连接有一对导向杆(20),所述固定框(10)的一侧开设有一对导向槽(16),一对所述导向杆(20)分别滑动连接在一对所述导向槽(16)内,所述固定板(17)的另一侧固定连接有一对把手(19),所述固定板(17)上通过轴承转动连接有螺纹杆(22),所述螺纹杆(22)上设置有多个夹紧组件,所述固定板(17)的一侧固定连接有一对导向柱(23),所述夹紧组件包括固定连接在一对所述导向柱(23)上的固定夹板(24)和滑动连接在一对所述导向柱(23)上的移动夹板(25),所述移动夹板(25)上固定连接有螺纹套管(26),所述螺纹套管(26)螺纹连接在所述螺纹杆(22)上,所述固定夹板(24)上开设有穿孔,所述螺纹杆(22)的一端贯穿所述穿孔,所述固定夹板(24)的两侧和所述移动夹板(25)的两侧均转动连接有转动杆(27),同一侧的一对所述转动杆(27)上转动连接有同一个夹紧板(28),一对所述导向柱(23)的一端固定连接有同一个连接板(29),所述螺纹杆(22)的一端固定连接有转盘(18),所述第一限位组件与所述固定板(17)相连接,所述第二限位组件与所述连接板(29)和所述驱动组件相连接;

所述驱动组件包括固定连接于所述真空罐总成(1)一端的驱动电机(6),所述驱动电机(6)的输出端固定连接有旋转轴,所述旋转轴的一端贯穿所述真空罐总成(1)并固定连接有限位块(7),所述第二限位组件包括固定连接于所述连接板(29)一侧的一对限位杆(30),所述限位块(7)的一侧开设有一对限位孔(31),一对所述限位杆(30)的一端分别贯穿一对所述限位孔(31),所述限位孔(31)和所述限位杆(30)均为相适配的方形结构,所述限位块(7)的一侧开设有导向孔(32),所述导向孔(32)位于所述限位孔(31)的一端位置处,且同轴设置,所述导向孔(32)为锥形结构。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷镀层沉积装置,其特征在于:所述第一限位组件包括固定连接于所述固定框(10)上的下滑管(12),所述下滑管(12)的底端滑动连接有限位销(13),所述固定板(17)上开设有插孔(21),所述限位销(13)的一端贯穿所述插孔(21),所述限位销(13)上固定套接有拨动钩(14),所述拨动钩(14)与所述下滑管(12)之间设置有限位弹簧(15),所述限位弹簧(15)的两端分别与所述拨动钩(14)和所述下滑管(12)固定连接。

3.根据权利要求2所述的一种陶瓷镀层沉积装置,其特征在于:所述真空罐总成(1)包括罐体,所述罐体的一侧转动连接有罐盖,所述罐盖的一端设置有观察窗,所述罐体与所述罐盖之间设置有固定组件,所述固定组件包括固定连接于所述真空罐总成(1)周圈侧壁上的多个均匀分布的U形板,所述U形板上转动连接有螺纹柱,所述螺纹柱上螺纹连接有压紧盘,所述罐盖周圈侧壁上固定连接有多个均匀分布的卡板,所述卡板上开设有卡槽,所述螺纹柱的一端贯穿所述卡槽,并通过所述压紧盘压紧限位。

4.根据权利要求3所述的一种陶瓷镀层沉积装置,其特征在于:所述真空罐总成(1)的底部设置有支架组件,所述支架组件包括四个立柱,四个立柱的顶部固定连接有放置板,所述罐体固定连接在所述放置板上,四个所述立柱的底端均固定连接有底座,所述底座为橡胶材质,所述真空泵组件(2)设置于所述支架组件的一侧。

5.根据权利要求4所述的一种陶瓷镀层沉积装置,其特征在于:所述真空泵组件(2)包括真空泵和真空机,所述真空泵驱动所述真空机运转,所述真空机进气端上固定连接有连接管,所述连接管的一端固定连接在所述罐体的侧壁上,且与所述罐体相连通。