1.一种用于铜板打磨抛光的装置，其特征在于：包括有底板(1)、支撑架(2)、固定板(3)、收集框(4)、移动架(5)、减速电机(6)、打磨器(7)、支撑杆(8)、第一弹簧(9)、托板(11)、拉杆(12)、第二弹簧(13)、连接柱(14)和滑块(15)，所述底板(1)的数量为两个，两块所述底板(1)上均设有支撑架(2)，其中一侧的所述支撑架(2)上设有固定板(3)，所述固定板(3)上放置有收集框(4)，两个所述支撑架(2)上设有支撑杆(8)，两根所述支撑杆(8)之间滑动式地设有移动架(5)，两根所述支撑杆(8)的外侧均套有第一弹簧(9)，且两个所述第一弹簧(9)的两端均分别连接在所述支撑架(2)和所述移动架(5)上，所述移动架(5)上安装有减速电机(6)，所述减速电机(6)的输出轴上设有打磨器(7)，另一侧的所述支撑架(2)上设有托板(11)，所述托板(11)上设有两个连接柱(14)，两根所述连接柱(14)上均设有拉杆(12)，两根所述连接柱(14)上均设有滑块(15)，两根所述连接柱(14)的外侧均套有第二弹簧(13)，且所述第二弹簧(13)的两端均分别连接在所述托板(11)和所述滑块(15)上。

2.根据权利要求1所述的一种用于铜板打磨抛光的装置，其特征在于：还包括有气缸(10)和推板(101)，其中一侧的所述支撑架(2)上安装有气缸(10)，所述气缸(10)的伸缩杆上设有推板(101)，且所述推板(101)与所述托板(11)滑动配合。

3.根据权利要求2所述的一种用于铜板打磨抛光的装置，其特征在于：所述底板(1)的底部设有防滑垫。

4.根据权利要求3所述的一种用于铜板打磨抛光的装置，其特征在于：所述支撑架(2)为镂空设计。

5.根据权利要求4所述的一种用于铜板打磨抛光的装置，其特征在于：所述移动架(5)上设有握把。

6.根据权利要求5所述的一种用于铜板打磨抛光的装置，其特征在于：所述滑块(15)上设有防滑套。