1.一种半导体腔室的进排气结构，包括腔室(1)、冷却机构(2)、过滤机构(5)、出气口(9)，其特征在于：所述腔室(1)上设置有冷却机构(2)，所述腔室(1)上固定连接有支撑块(3)，所述支撑块(3)上通过螺纹连接有螺钉(4)，所述腔室(1)的上端设置有进气管(6)，所述进气管(6)上设置有扩气口(7)，所述出气口(9)与腔室(1)相通。

2.根据权利要求1所述的一种半导体腔室的进排气结构，其特征在于：所述冷却机构(2)包括循环器(21)、进水管(22)、冷凝管(23)，所述腔室(1)上固定连接有循环器(21)，所述循环器(21)内设置有进水管(22)与冷凝管(23)，所述腔室(1)内固定连接有冷凝管(23)。

3.根据权利要求1所述的一种半导体腔室的进排气结构，其特征在于：所述过滤机构(5)包括密封套(51)、过滤网(52)、定位槽(53)，所述腔室(1)内固定连接有密封套(51)，所述密封套(51)内滑动连接有过滤网(52)，所述过滤网(52)内开设有定位槽(53)。

4.根据权利要求1所述的一种半导体腔室的进排气结构，其特征在于：所述螺钉(4)滑动连接于定位槽(53)内。

5.根据权利要求1所述的一种半导体腔室的进排气结构，其特征在于：所述腔室(1)的下端固定连接有抽风机(8)，所述抽风机(8)内设置有出气口(9)。

6.根据权利要求3所述的一种半导体腔室的进排气结构，其特征在于：所述过滤网(52)滑动连接于腔室(1)内。