1.一种用于外层防护的金属片表面缺陷点探测的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

构建标准金属片理论表面光干涉点阵模型；

构建检测光源平台，并限制光源检测平台检测面积；

在光源检测平台上将若干个光源产生的光束进行阵列汇集，并将至少两个经过汇集后的光束通过透镜汇集到待检测金属片上同一检测点上；

将待测金属片上的所有检测点进行干涉分析，并通过分析数据建构有限元模型；

将有限元模型中的数据带入标准金属片理论表面光干涉点阵模型内与标准数据进行对比，并获取误差数据，当误差数据在设定阈值内，判定为合格金属片，当误差数据超过设定阈值，判定为缺陷金属片；

其中，在构建标准金属片理论表面光干涉点阵模型时，金属片理论表面光干涉点阵模型是根据金属片特性，制定对应标准的表面光干涉点阵模型；

在建立有限元模型时，通过光线传播模拟软件，将光线传播过程中产生的光波场进行模拟，从而对缺陷处反射光的强度变化进行分析，并在有限元模型中使用网格划分软件来构建有限元网格，对光线和缺陷点进行模拟。

2.如权利要求1所述的一种用于外层防护的金属片表面缺陷点探测的方法，其特征在于：在构建检测光源平台后，对待测金属片的检测面面积进行测算，在检测面面积低于光源时，以光源检测平台检测面积中心点为轴心在待测金属片检测面上进行阵列投射，通过若干轮阵列投射对检测面进行完全覆盖。

3.如权利要求1所述的一种用于外层防护的金属片表面缺陷点探测的方法，其特征在于：构建标准金属片理论表面光干涉点阵模型时，首先构建标准检测点位置，以标准金属片中心点进行环形阵列或矩形阵列，采用环形阵列构建检测点位置的，相邻两环线的检测点间隔设置；采用矩形阵列构建检测点位置的，在矩形顶点上的相邻检测点连线构成L型，顶点上相邻检测点的间隔小于矩形边检测点间隔。

4.如权利要求3所述的一种用于外层防护的金属片表面缺陷点探测的方法，其特征在于：采用环形阵列构建的检测点，相邻两环线中外环两个检测点与内环相邻检测点的连线构成等腰三角形。

5.如权利要求1所述的一种用于外层防护的金属片表面缺陷点探测的方法，其特征在于：所述透镜与光源检测平台之间的间距通过限制光源检测平台检测面积进行测定，在调整检测面积时，通过调整透镜与光源检测平台之间的距离，对检测面积进行调整。

6.如权利要求1所述的一种用于外层防护的金属片表面缺陷点探测的方法，其特征在于：所述光源检测平台中的光源采用激光光源，在进行汇集时两种光束采用的两种光源分别为XYZ轴调焦激光光源和YUV轴调焦激光光源，通过调整两种光源，对汇聚后的检测光束进行调整。

7.如权利要求1所述的一种用于外层防护的金属片表面缺陷点探测的方法，其特征在于：在对检测点进行干涉分析时，确定汇聚的光束中两个光脉冲之间的间距，并获取两个光脉冲之间的相位差，确定相位差值，两个光脉冲之间的相位差值在干涉区间间隙内时记录干涉图，根据干涉图获取检测点光线变化强度数据，通过光线变化强度数据构建干涉分析数据。

8.如权利要求1所述的一种用于外层防护的金属片表面缺陷点探测的方法，其特征在于：在进行光线模拟时，通过光束截面积中心波长和截面外径得到的光波场波长和光波场强度，并在有限元模型中仿真缺陷反射光的强度变化，并通过分析干涉图来确定缺陷处反射光强度的变化。