1.一种可自清洁的反应釜，包括主体机构(1)、自清洁机构(2)和混合机构(3)，其特征在于：所述自清洁机构(2)位于主体机构(1)上端的左端，所述混合机构(3)位于自清洁机构(2)的右侧，所述主体机构(1)包括固定底座(101)、反应釜本体(102)、进料管(103)、出料管(104)和阀门(105)，所述反应釜本体(102)固定安装在固定底座(101)的上端，所述进料管(103)、固定安装在反应釜本体(102)上端的前端，所述出料管(104)固定安装在反应釜本体(102)前端的下端，所述阀门(105)活动安装在出料管(104)的上端，所述阀门(105)的下端位于出料管(104)的内端，所述自清洁机构(2)包括抽取水泵(201)、抽取软管(202)、排出管(203)、蓄水板(204)、清洁喷头(205)、适配槽一(206)和适配槽二(207)，所述抽取水泵(201)固定安装在反应釜本体(102)上端的左右两端。

2.根据权利要求1所述的一种可自清洁的反应釜，其特征在于：所述抽取软管(202)固定安装在抽取水泵(201)的上端，所述抽取软管(202)固定连接抽取水泵(201)的进水端，所述排出管(203)固定安装在抽取水泵(201)的下端，所述排出管(203)固定连接抽取水泵(201)的出水端，所述蓄水板(204)固定安装在排出管(203)的下端，所述蓄水板(204)的进水端固定连接排出管(203)的出水端，所述清洁喷头(205)固定安装在蓄水板(204)的下端。

3.根据权利要求2所述的一种可自清洁的反应釜，其特征在于：所述清洁喷头(205)均匀分布在蓄水板(204)的下端，所述清洁喷头(205)的进水端固定连接蓄水板(204)的出水端，所述适配槽一(206)固定设置在蓄水板(204)的中部。

4.根据权利要求3所述的一种可自清洁的反应釜，其特征在于：所述适配槽二(207)固定设置在适配槽一(206)的右侧，所述适配槽二(207)与进料管(103)相适配，所述进料管(103)的下端延伸至蓄水板(204)的下方。

5.根据权利要求4所述的一种可自清洁的反应釜，其特征在于：所述混合机构(3)包括混合电机(301)、混合杆(302)、转轴(303)、混合叶(304)和清洁刷(305)，所述混合电机(301)固定安装在反应釜本体(102)上端的中部，所述混合杆(302)固定安装在混合电机(301)的传动端，所述混合杆(302)与适配槽一(206)相适配。

6.根据权利要求5所述的一种可自清洁的反应釜，其特征在于：所述转轴(303)固定安装在混合杆(302)的下端，所述转轴(303)旋转连接反应釜本体(102)内部的下端，所述混合叶(304)固定安装在混合杆(302)的左右两端，所述清洁刷(305)固定安装在混合叶(304)的左右两端，所述清洁刷(305)活动连接反应釜本体(102)的内端。