1.一种化工自清洁的化工反应釜，包括主体机构(1)、清洁机构(2)和散热机构(3)，其特征在于：所述清洁机构(2)位于主体机构(1)的上端，所述散热机构(3)位于主体机构(1)的内部，所述主体机构(1)包括机体(101)、底座(102)、支撑架(103)、万向轮(104)和机盖(105)，所述底座(102)固定安装在机体(101)的下端，所述支撑架(103)固定安装在底座(102)的下端，所述万向轮(104)固定安装在支撑架(103)的下端，所述机盖(105)活动安装在机体(101)的前端，所述清洁机构(2)包括反应釜本体(201)、密封盖(202)和电机(203)，所述反应釜本体(201)固定安装在机体(101)的上端，所述密封盖(202)活动安装在反应釜本体(201)的上端，所述电机(203)固定安装在密封盖(202)的下端。

2.根据权利要求1所述的一种化工自清洁的化工反应釜，其特征在于：所述清洁机构(2)还包括旋转轴(204)、软毛转筒(205)、限位块(206)、水泵(207)、水箱(208)和喷头(209)，所述旋转轴(204)固定安装在电机(203)的下端。

3.根据权利要求2所述的一种化工自清洁的化工反应釜，其特征在于：所述软毛转筒(205)活动安装在旋转轴(204)的下端，所述软毛转筒(205)活动安装在反应釜本体(201)的内端，所述限位块(206)固定安装在机体(101)的内端。

4.根据权利要求3所述的一种化工自清洁的化工反应釜，其特征在于：所述水泵(207)固定安装在限位块(206)的下端，所述水箱(208)固定安装在机体(101)的内端，所述喷头(209)固定安装在反应釜本体(201)的内端。

5.根据权利要求4所述的一种化工自清洁的化工反应釜，其特征在于：所述散热机构(3)包括固定块(301)、马达(302)、转动杆(303)、风扇(304)和排气窗(305)，所述固定块(301)固定安装在机体(101)的内端。

6.根据权利要求5所述的一种化工自清洁的化工反应釜，其特征在于：所述马达(302)固定安装在固定块(301)的左端、所述转动杆(303)固定安装在马达(302)的左端，所述风扇(304)固定安装在转动杆(303)的左端，所述排气窗(305)固定设置在机体(101)的左端。