1.一种立式自清洗反应釜，包括支架(1)和釜体(2)，其特征在于：所述釜体(2)的顶部分别固定安装有驱动电机(4)和电动推杆(10)，所述驱动电机(4)的输出轴上固定安装有轴杆(5)，所述轴杆(5)延伸至釜体(2)的内部，且轴杆(5)的外壁上活动安装有套筒(6)，所述套筒(6)的外壁上分别固定连接有搅拌叶(7)和连接杆(8)，所述连接杆(8)远离套筒(6)的一端固定连接有刮料板(9)，所述电动推杆(10)的输出轴上固定安装有安装套(11)，所述安装套(11)的内侧固定安装有轴承(12)，所述轴承(12)的内侧与套筒(6)的外壁过盈配合。

2.根据权利要求1所述的一种立式自清洗反应釜，其特征在于：所述釜体(2)固定连接至支架(1)的顶部，所述釜体(2)的内顶壁固定安装有喷头(14)。

3.根据权利要求1所述的一种立式自清洗反应釜，其特征在于：所述釜体(2)的顶部固定连接有进料管(3)，所述釜体(2)的底部固定连接有出料管(16)。

4.根据权利要求1所述的一种立式自清洗反应釜，其特征在于：所述刮料板(9)与釜体(2)的内壁相贴靠，所述刮料板(9)的外形呈U形。

5.根据权利要求1所述的一种立式自清洗反应釜，其特征在于：所述搅拌叶(7)的数量为两个，两个所述搅拌叶(7)对称分布于套筒(6)的左右两侧。

6.根据权利要求1所述的一种立式自清洗反应釜，其特征在于：所述套筒(6)的内壁与轴杆(5)的外壁间隙配合，所述轴杆(5)的外壁上固定连接有滑块(13)，所述滑块(13)滑动连接至套筒(6)的内壁上。

7.根据权利要求6所述的一种立式自清洗反应釜，其特征在于：所述套筒(6)的内壁上开设有与滑块(13)相适配的滑槽(15)，所述滑块(13)的数量为两个，两个所述滑块(13)对称分布于轴杆(5)的左右两侧。