1.一种化工反应釜用内壁清洗装置，包括反应釜釜体(1)、清洁机构(2)、下料机构(3)，其特征在于：所述清洁机构(2)固定安装于反应釜釜体(1)的内部，所述清洁机构(2)与下料机构(3)固定连接；

所述清洁机构(2)由驱动电机(201)、旋转轴(202)、第一支撑架(203)、螺旋叶片(204)、第一搅拌杆(205)、第一连接轴(206)、第二支撑架(207)、清洁柱(208)、伸缩杆(209)、清洁刷(210)、导料刮板(211)、进料口(212)、第一安装架(213)组成，所述驱动电机(201)通过第一安装架(213)安装于反应釜釜体(1)的顶部，所述驱动电机(201)的输出端与旋转轴(202)固定连接，所述第一支撑架(203)固定套接于旋转轴(202)的外壁上，所述清洁柱(208)通过第一连接轴(206)活动连接于第一支撑架(203)上，所述第二支撑架(207)固定安装于第一支撑架(203)的侧壁，所述伸缩杆(209)安装于第二支撑架(207)上，且所述伸缩杆(209)的输出端与清洁刷(210)固定连接，所述导料刮板(211)安装于第二支撑架(207)的侧面，所述第一搅拌杆(205)固定安装于旋转轴(202)上，所述螺旋叶片(204)安装于第一搅拌杆(205)之间的旋转轴(202)上，所述进料口(212)安装于反应釜釜体(1)的顶部。

2.根据权利要求1所述的一种化工反应釜用内壁清洗装置，其特征在于：所述下料机构(3)由第二安装架(301)、导料槽(302)、固定环(303)、旋转叶片(304)、下料槽(305)、下料口(306)组成，所述第二安装架(301)固定安装于旋转轴(202)上，所述导料槽(302)设置于第二安装架(301)底部，所述旋转叶片(304)通过固定环(303)连接于旋转轴(202)上，所述下料槽(305)设置于反应釜釜体(1)的底部，且所述下料槽(305)与下料口(306)固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种化工反应釜用内壁清洗装置，其特征在于：所述第一支撑架(203)的两侧均设置有清洁柱(208)、清洁刷(210)和导料刮板(211)，所述清洁柱(208)、清洁刷(210)和导料刮板(211)的设置长度相等。

4.根据权利要求3所述的一种化工反应釜用内壁清洗装置，其特征在于：所述清洁柱(208)的外表面开设有多个扇形槽，所述扇形槽以清洁柱(208)为轴周向分布。

5.根据权利要求2所述的一种化工反应釜用内壁清洗装置，其特征在于：所述导料槽(302)倾斜设置，斜面贴靠反应釜釜体(1)的内底部设置，且第二安装架(301)的两侧均开设导料槽(302)，两个所述导料槽(302)的槽口方向相反。

6.根据权利要求3所述的一种化工反应釜用内壁清洗装置，其特征在于：所述清洁刷(210)设置于清洁柱(208)与导料刮板(211)之间，且所述清洁刷(210)可拆卸安装于伸缩杆(209)的输出端。

7.根据权利要求2所述的一种化工反应釜用内壁清洗装置，其特征在于：所述下料槽(305)的开设直径大于旋转叶片(304)的旋转直径设置。