1.一种化工提纯反应釜，其特征在于，包括：

釜体；

进料口，所述进料口设于所述釜体的顶部，所述进料口的顶部设有封闭盖；

多个加热器，多个所述加热器均固定安装在所述釜体的内壁上；

出料口，所述出料口设于所述釜体的底部，所述出料口上固定安装有阀门；

搅拌机构，所述搅拌机构设于所述釜体上，所述搅拌机构用于搅拌化工提纯的物料；

所述釜体的内壁上固定安装有传导箱，所述传导箱内固定安装有半导体制冷板，所述半导体制冷板的一侧固定安装有散热片；

所述釜体的一侧固定安装有排气管，所述排气管内固定安装有风机，所述风机与所述散热片对应设置。

2.根据权利要求1所述的化工提纯反应釜，其特征在于，所述搅拌机构包括第一电机、第一搅拌轴和多个第一搅拌杆，所述第一电机固定安装在所述釜体的顶部，所述第一搅拌轴转动安装在所述釜体内，所述第一搅拌轴的顶端与所述第一电机的输出轴固定连接，多个所述第一搅拌杆均固定安装在所述第一搅拌轴上。

3.根据权利要求1所述的化工提纯反应釜，其特征在于，所述釜体内固定安装有隔热板，所述隔热板上开设有排料口，所述排料口上固定安装有电磁阀。

4.根据权利要求1所述的化工提纯反应釜，其特征在于，所述釜体的一侧固定安装有第二电机，所述釜体内转动安装有第二搅拌轴，所述第二搅拌轴的一端与所述第二电机的输出轴固定连接，所述第二搅拌轴上固定安装有多个第二搅拌杆。

5.根据权利要求2所述的化工提纯反应釜，其特征在于，所述第一搅拌轴上固定安装有多个连接杆，对应两个所述连接杆上固定安装有刮板，多个所述刮板均与所述加热器相接触。