1.一种化工提纯反应釜,其特征在于,包括:
釜体;
进料口,所述进料口设于所述釜体的顶部,所述进料口的顶部设有封闭盖;
多个加热器,多个所述加热器均固定安装在所述釜体的内壁上;
出料口,所述出料口设于所述釜体的底部,所述出料口上固定安装有阀门;
搅拌机构,所述搅拌机构设于所述釜体上,所述搅拌机构用于搅拌化工提纯的物料;
所述釜体的内壁上固定安装有传导箱,所述传导箱内固定安装有半导体制冷板,所述半导体制冷板的一侧固定安装有散热片;
所述釜体的一侧固定安装有排气管,所述排气管内固定安装有风机,所述风机与所述散热片对应设置。
2.根据权利要求1所述的化工提纯反应釜,其特征在于,所述搅拌机构包括第一电机、第一搅拌轴和多个第一搅拌杆,所述第一电机固定安装在所述釜体的顶部,所述第一搅拌轴转动安装在所述釜体内,所述第一搅拌轴的顶端与所述第一电机的输出轴固定连接,多个所述第一搅拌杆均固定安装在所述第一搅拌轴上。
3.根据权利要求1所述的化工提纯反应釜,其特征在于,所述釜体内固定安装有隔热板,所述隔热板上开设有排料口,所述排料口上固定安装有电磁阀。
4.根据权利要求1所述的化工提纯反应釜,其特征在于,所述釜体的一侧固定安装有第二电机,所述釜体内转动安装有第二搅拌轴,所述第二搅拌轴的一端与所述第二电机的输出轴固定连接,所述第二搅拌轴上固定安装有多个第二搅拌杆。
5.根据权利要求2所述的化工提纯反应釜,其特征在于,所述第一搅拌轴上固定安装有多个连接杆,对应两个所述连接杆上固定安装有刮板,多个所述刮板均与所述加热器相接触。