1.一种基于壳体表面处理的镀膜设备，其特征在于，包括支撑架（10）、电镀池（20）、驱动组件（30）、导电部件（40）、浸镀组件（50）、输送组件（60）和挂料组件（70），其中，所述支撑架（10）设置在所述电镀池（20）上；

所述驱动组件（30）设置在所述电镀池（20）上，所述驱动组件（30）用于搅拌电镀池（20）中的电镀溶液；

所述导电部件（40）设置在所述电镀池（20）上；

所述浸镀组件（50）移动地设置在所述电镀池（20）上，所述浸镀组件（50）包括第一驱动部件（501）、固定架（502）、紧固连接件（503）、伸缩调节机构（504）、连接件（505），其中，所述第一驱动部件（501）设置在所述电镀池（20）上；

所述固定架（502）为两组，两组所述固定架（502）分别移动地设置在所述电镀池（20）内；

所述紧固连接件（503）设置在两组所述固定架（502）上，且所述紧固连接件（503）和所述第一驱动部件（501）输出端连接；

所述伸缩调节机构（504）为两组，两组所述伸缩调节机构（504）分别设置在对应所述固定架（502）上；

所述连接件（505）设置在所述伸缩调节机构（504）活动端，且所述连接件（505）和所述驱动组件（30）抵触连接；

所述输送组件（60）设置在所述支撑架（10）上；

所述挂料组件（70）拆卸地设置在所述输送组件（60）上，且所述挂料组件（70）和所述连接件（505）连接；

所述挂料组件（70）包括连接轴杆（701）、限位件（702）和卡接件（703），其中，所述限位件（702）为多组，多组所述限位件（702）线性阵列设置在所述连接轴杆（701）上；

所述卡接件（703）设置在所述连接轴杆（701）上，且所述卡接件（703）拆卸地设置在所述输送组件（60）上；

所述连接轴杆（701）和所述连接件（505）连接。

2.根据权利要求1所述的基于壳体表面处理的镀膜设备，其特征在于，所述输送组件（60）包括导轨（601）、输送链（602）和挂料连接机构（603），其中，所述导轨（601）设置在所述支撑架（10）上；

所述输送链（602）移动地设置在所述导轨（601）上；

所述挂料连接机构（603）拆卸地设置在所述输送链（602）上，且所述挂料连接机构（603）和所述卡接件（703）卡接；

挂料连接机构（603）包括紧固调节件（6031）、升降传动件（6032）和挂件（6033），其中，所述紧固调节件（6031）拆卸地设置在所述输送链（602）上；

所述升降传动件（6032）升降地设置在所述紧固调节件（6031）上；

所述挂件（6033）旋转地设置在所述紧固调节件（6031）上。

3.根据权利要求2所述的基于壳体表面处理的镀膜设备，其特征在于，所述紧固调节件（6031）包括外壳体（60311）、内活动板块（60312）、下卡板（60313）、上卡板（60314）、通孔（60315）、盲槽（60316）和通槽（60317），其中，所述外壳体（60311）拆卸地设置在所述输送链（602）上；

所述内活动板块（60312）旋转地设置在所述外壳体（60311）内；

所述下卡板（60313）环形阵列设置在所述内活动板块（60312）底壁；

所述上卡板（60314）环形阵列设置在所述内活动板块（60312）顶壁；

所述下卡板（60313）和所述上卡板（60314）分别与所述升降传动件（6032）抵触连接；

所述通孔（60315）开设在所述内活动板块（60312）上；

所述盲槽（60316）开设在相邻两组所述上卡板（60314）之间；

所述通槽（60317）开设在相邻两组所述上卡板（60314）外侧。

4.根据权利要求3所述的基于壳体表面处理的镀膜设备，其特征在于，所述升降传动件（6032）包括活动底座（60321）、固定轴杆（60322）、下顶板（60323）、第一压杆（60324）、第二压杆（60325）、复位件（60326）和上压板（60327），其中，所述活动底座（60321）移动地设置在所述外壳体（60311）内；

所述固定轴杆（60322）的一端设置在所述活动底座（60321）上；

所述下顶板（60323）设置在所述活动底座（60321）上，且所述下顶板（60323）和所述下卡板（60313）抵触连接；

所述第一压杆（60324）设置在所述活动底座（60321）底壁；

所述第二压杆（60325）设置在所述活动底座（60321）上；

所述复位件（60326）的两端分别与所述固定轴杆（60322）顶壁和所述外壳体（60311）内腔顶壁连接；

所述上压板（60327）设置在所述固定轴杆（60322）顶壁，且所述上压板（60327）和所述上卡板（60314）抵触连接。

5.根据权利要求1所述的基于壳体表面处理的镀膜设备，其特征在于，所述紧固连接件（503）包括外套环（5031）、固定杆（5032）和固定套环（5033），其中，所述外套环（5031）为两组，两组所述外套环（5031）设置在对应所述固定架（502）上；

所述固定杆（5032）设置在两组所述外套环（5031）中；

所述固定套环（5033）设置在所述固定杆（5032）上，且所述固定套环（5033）设置在所述第一驱动部件（501）输出端。

6.根据权利要求1所述的基于壳体表面处理的镀膜设备，其特征在于，所述伸缩调节机构（504）包括中空壳体（5041）、活动板块（5042）、缓冲部件（5043）和顶杆（5044），其中，所述中空壳体（5041）设置在所述固定架（502）上；

所述活动板块（5042）移动地设置在所述中空壳体（5041）内；

所述缓冲部件（5043）的两端分别与所述活动板块（5042）和所述中空壳体（5041）连接；

所述顶杆（5044）的一端设置在所述活动板块（5042）上，且所述顶杆（5044）的另一端和所述连接件（505）连接。

7.根据权利要求6所述的基于壳体表面处理的镀膜设备，其特征在于，所述连接件（505）包括紧固板块（5051）和挂钩（5052），其中，所述紧固板块（5051）设置在所述顶杆（5044）上；

所述挂钩（5052）为多组，多组所述挂钩（5052）线性排列设置在所述紧固板块（5051）上。

8.根据权利要求7所述的基于壳体表面处理的镀膜设备，其特征在于，所述驱动组件（30）包括搅拌机构（301）、顶料机构（302）和传送带（303），其中，所述搅拌机构（301）设置在所述电镀池（20）上，所述搅拌机构（301）用于搅拌所述电镀池（20）中的电镀溶液；

所述顶料机构（302）旋转地设置在所述电镀池（20）内，且所述顶料机构（302）和所述紧固板块（5051）抵触连接；

所述传送带（303）套设在所述搅拌机构（301）和所述顶料机构（302）上。

9.根据权利要求8所述的基于壳体表面处理的镀膜设备，其特征在于，所述搅拌机构（301）包括第二驱动部件（3011）、转轴（3012）和搅拌杆（3013），其中，所述第二驱动部件（3011）设置在所述电镀池（20）上；

所述转轴（3012）旋转地设置在所述电镀池（20）内，且所述转轴（3012）设置在所述第二驱动部件（3011）输出端；

所述搅拌杆（3013）为多组，多组所述搅拌杆（3013）线性排列设置在所述转轴（3012）上。

10.根据权利要求8所述的基于壳体表面处理的镀膜设备，其特征在于，所述顶料机构（302）包括旋转轴杆（3021）、顶料部件（3022）和从动件（3023），其中，所述旋转轴杆（3021）旋转地设置在所述电镀池（20）内；

所述顶料部件（3022）设置在所述旋转轴杆（3021）上；

所述从动件（3023）设置在所述电镀池（20）内，且所述顶料部件（3022）和所述从动件（3023）抵触连接；

所述从动件（3023）包括限位框架（30231）、从动杆架（30232）、限位挡板（30233）、弹性部件（30234）、连接支架（30235），其中，所述限位框架（30231）设置在所述电镀池（20）内；

所述从动杆架（30232）移动地设置在所述限位框架（30231）内，且所述从动杆架（30232）和所述顶料部件（3022）抵触连接；

所述限位挡板（30233）设置在所述电镀池（20）内；

所述连接支架（30235）设置在所述从动杆架（30232）上；

所述弹性部件（30234）的两端分别与所述限位挡板（30233）和所述连接支架（30235）连接。