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专利号: 2024201024924
专利类型:实用新型
专利状态:未下证
专利领域: 暂无
更新日期:2024-07-26
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种易清洗化工反应釜,包括支撑装置(1)、反应装置(2)、清洁装置(3)以及控制装置(4),其特征在于:所述支撑装置(1)由支撑座(5)、抓取把手(6)、支撑杆(7)以及防滑面板(8)组成,所述支撑装置(1)的支撑座(5)上设有反应装置(2),所述反应装置(2)由反应釜(9)、转动电机(10)、旋转轴(11)、搅拌杆(12)、转动支架(13)以及电动伸缩球(14)组成,所述反应装置(2)的反应釜(9)内设有清洁装置(3),所述清洁装置(3)由伸缩夹持板(15)、连接板(16)、刮板(17)以及限位轨道(18)组成,所述支撑装置(1)的支撑座(5)正面设有控制装置(4),所述控制装置(4)由控制箱(19)、LED显示屏(20)、控制按键(21)以及滑动保护板(22)组成。

2.根据权利要求1所述的一种易清洗化工反应釜,其特征在于:所述支撑装置(1)的支撑座(5)两侧设有抓取把手(6),所述抓取把手(6)通过螺栓固定在支撑座(5)上,所述支撑座(5)下侧设有支撑杆(7),所述支撑杆(7)下侧设有防滑面板(8),所述防滑面板(8)下侧粘接了摩擦条。

3.根据权利要求1所述的一种易清洗化工反应釜,其特征在于:所述反应装置(2)的反应釜(9)固定在支撑座(5)上,所述反应釜(9)上侧设有转动电机(10),所述反应釜(9)上侧设有电机支架,所述转动电机(10)与电机支架之间设有缓冲海绵。

4.根据权利要求3所述的一种易清洗化工反应釜,其特征在于:所述反应釜(9)内部设有旋转轴(11),所述旋转轴(11)与转动电机(10)动力连接,所述旋转轴(11)上设有搅拌杆(12),所述搅拌杆(12)上侧设有疏水孔,所述旋转轴(11)下侧设有转动支架(13),所述转动支架(13)固定在反应釜(9)内,所述反应釜(9)下侧设有出料口,所述转动支架(13)下侧设有电动伸缩球(14),所述电动伸缩球(14)的堵塞球位于反应釜(9)的出料口处,所述反应釜(9)正面设有可视窗,所述反应釜(9)上侧设有进料口。

5.根据权利要求1所述的一种易清洗化工反应釜,其特征在于:所述反应釜(9)内壁上设有限位轨道(18),所述限位轨道(18)与连接板(16)配合连接,所述连接板(16)末端设有刮板(17),所述连接板(16)内侧设有固定圆环,所述连接板(16)的固定圆环内侧设有伸缩夹持板(15),所述伸缩夹持板(15)内侧设有增阻织构,所述伸缩夹持板(15)的弧形板与旋转轴(11)同心配合。

6.根据权利要求1所述的一种易清洗化工反应釜,其特征在于:所述控制装置(4)的控制箱(19)设在支撑座(5)上,所述控制箱(19)设有安装槽,所述控制箱(19)内设有LED显示屏(20),所述LED显示屏(20)旁边设有控制按键(21),所述控制按键(21)上设有指示灯,所述控制箱(19)的安装槽内设有滑动槽,所述控制箱(19)的滑动槽内设有滑动保护板(22),所述滑动保护板(22)上设有抓取块。