1.一种半导体清洗设备，包括机体(1)、波纹管(9)和集水器(17)，其特征在于，所述机体(1)的内壁安装有安装板(2)，所述安装板(2)的外壁安装有气缸(3)，所述气缸(3)的输出端安装有输出杆(4)，所述输出杆(4)的一端连接有连接块(5)，所述连接块(5)的外壁安装有移动板(6)，所述移动板(6)的外壁安装有喷头(8)，所述移动板(6)的背侧安装有滑轨(7)，所述喷头(8)外壁的一侧安装有波纹管(9)，所述喷头(8)的一端安装有水管(10)，所述水管(10)的一端安装有储水罐(11)，所述机体(1)内壁的底部安装有传送带(12)，所述传送带(12)的底部安装有滤网(13)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体清洗设备，其特征在于，所述滤网(13)的两端均安装有夹持块(14)，所述夹持块(14)的内壁安装有固定栓(15)，所述固定栓(15)的底部安装有插块(16)。

3.根据权利要求2所述的一种半导体清洗设备，其特征在于，所述插块(16)的内壁安装有集水器(17)，所述集水器(17)的内壁安装有伸缩弹簧杆(18)，所述伸缩弹簧杆(18)的一端安装有受力头(19)，所述受力头(19)的一侧安装有按钮(20)，所述机体(1)外壁的底部安装有底板(21)。

4.根据权利要求1所述的一种半导体清洗设备，其特征在于，所述移动板(6)的背侧设置有滑块，且移动板(6)的滑块与滑轨(7)相适配。

5.根据权利要求1所述的一种半导体清洗设备，其特征在于，所述水管(10)的一端连接于喷头(8)，所述水管(10)的另一端连接于储水罐(11)。

6.根据权利要求3所述的一种半导体清洗设备，其特征在于，所述集水器(17)外壁的顶部呈倾斜状，且集水器(17)的倾斜角度为123°。

7.根据权利要求3所述的一种半导体清洗设备，其特征在于，所述集水器(17)外壁的两侧呈半圆形，所述集水器(17)的内部呈空心状。